1.系統(tǒng)

      室內(nèi)的空氣凈化系統(tǒng)可分為水平層流、垂直層流和亂流。選擇氣流形式一則參照慣例，二則取決于房間的工作參數(shù)。

2.潔凈度與換氣次數(shù)

      房間的潔凈度取決于單位時(shí)間的換氣次數(shù)，因此慎密考慮房間的工作性質(zhì)、以及生產(chǎn)工藝要求，再?zèng)Q定凈化系統(tǒng)的技術(shù)參數(shù)。

3.結(jié)構(gòu)

      為了保證氣流幾乎不受干擾，就必須進(jìn)行結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，必要的謹(jǐn)慎可以防止房間里任何地方的灰塵積累。

4.設(shè)計(jì)方案

      要確定設(shè)計(jì)方案，必須先對(duì)房間的工作性質(zhì)以及其中的氣流條件進(jìn)行認(rèn)真的考慮。發(fā)塵量大的車(chē)間不宜采用地面送風(fēng)形式，潔凈度要求高的車(chē)間應(yīng)盡可能遠(yuǎn)離其它車(chē)間。

5.材料

      作為潔凈室頂棚，墻面和地板的材料必須是不宜破裂、不易沾顆粒，以及幾乎不起塵的材料，另外根據(jù)房間不同的工作條件，還必須考慮材料的化學(xué)性能是否穩(wěn)定。

6.壓力和氣流

      為了保證房間的潔凈度，必須防止外面污染氣流進(jìn)入室內(nèi)，要達(dá)到這個(gè)目的，房間里必須保持正壓。為了獲得所要求的房間壓力，必須補(bǔ)充適當(dāng)?shù)男迈r空氣。

7.輔助設(shè)備

      必要時(shí)還得安置一些輔助設(shè)備：如新風(fēng)口的空氣指示儀，隔斷上的傳遞窗等。這些設(shè)備必須適合房間的要求，并且必須真正了解其功能.

8.人和物的控制

      人和物是潔凈室的主要塵源，因此必須充分控制，例如：在進(jìn)入凈化房前，所有的人都要經(jīng)過(guò)人凈系統(tǒng)，更換無(wú)塵衣，并且要接受凈化系統(tǒng)功能的基本教育。

9.給排水和送風(fēng)裝置及電源

      根據(jù)所要運(yùn)行的車(chē)間，提供必須的給排水裝置，送風(fēng)裝置和電源，這些裝置和所涉及的設(shè)備必須易于使用和設(shè)計(jì)，同時(shí)不得有勃于空氣凈化系統(tǒng)。 


潔凈室的規(guī)劃 一般性的規(guī)劃重點(diǎn)
潔凈室的整廠規(guī)劃(Turn Key Projects)(如表3-1)，因涉及范圍極廣，需建筑、水電、空調(diào)、環(huán)保、防震、制造等各項(xiàng)專業(yè)人才共同規(guī)劃，盡管不少潔凈室規(guī)劃，多需要就于既有的建筑物，然而，為避免失誤應(yīng)盡可能事先確認(rèn)下列事項(xiàng)：

1. 潔凈度等級(jí)。	2. 室壓之平衡措施。
3. 溫濕度要求。	4. 機(jī)器設(shè)備之必要性。
5. 確定生產(chǎn)流程。	6. 局部排氣之必要性。
7. 日后擴(kuò)充彈性。	8. 足夠維護(hù)保養(yǎng)空間。
9. 空調(diào)送風(fēng)方式。	10. 員工休息區(qū)之安排。
11. 設(shè)施與動(dòng)力之配置。	12. 室內(nèi)凈高與樓板載重。
13. 設(shè)備空間與管道間。	14. 門(mén)窗宜少，氣密性要佳。
15. 靜電、振動(dòng)及噪音。	16. 生產(chǎn)線與活動(dòng)線少交叉。
17. 公害、污染與防災(zāi)。	18. 安裝及運(yùn)轉(zhuǎn)成本之衡量。

潔凈室的動(dòng)線規(guī)劃

所謂[動(dòng)線]，是指人員、原料之入室路線，與人員與成品的出室路線。規(guī)劃時(shí)，要檢討分析人(車(chē))路徑、配管系統(tǒng)、排氣管道、原料搬運(yùn)和作業(yè)之流程等，盡量縮短動(dòng)線，并避免交叉，以防止交叉污染(Cross Contamination)。

要點(diǎn)：

1． 作業(yè)者、材料、化學(xué)藥品等動(dòng)線勿集中。
2． 制造裝置之出入，需不對(duì)作業(yè)產(chǎn)生大影響。
3． 超潔凈室四周，宜設(shè)緩沖區(qū)(即較差潔凈區(qū))。

工業(yè)潔凈室(ICR)之潔凈度與適用和分類表

 

潔凈度 產(chǎn)業(yè)別	潔凈度(≥0.5μm，個(gè)/ft3)
	1 10 100 1000 10000 100000
LSI制造工程
LSI組立檢查工程
(矽)單結(jié)晶
照像光罩photo mask
光阻涂膜photoresist
一般液晶(tn,stn)
顯示用液晶(tft,mim)
投影用液晶(tft)
混合(hybrid)IC
印刷基板材料
印刷配線板
電晶體、二極體
精密電子部品
磁頭
磁碟
電腦、磁碟裝置組立
錄影帶、光碟
照像底片
光織
精密軸承
光學(xué)鏡片
半導(dǎo)體制造裝置
潔凈管及閥類
LSI制造用化學(xué)藥品
精密測(cè)定機(jī)制造
清洗無(wú)壓衣
印刷、制版

 生物潔凈室(BCR)之潔凈度與適用和分類表

潔凈度 產(chǎn)業(yè)別	潔凈度(≥0.5μm，個(gè)/ft3)
	1 10 100 1000 10000
(醫(yī)藥品)
抗生物質(zhì)
注射藥
血清
藥劑包裝過(guò)程
醫(yī)療用器具
(病院)
無(wú)菌***
***
無(wú)菌病室
調(diào)劑室
(食品)
牛乳·乳制品
食肉·食肉加工
煉乳制品
清酒·酒類
糕餅·豆腐
制果·面包
(動(dòng)物實(shí)驗(yàn))
飼養(yǎng)區(qū)
隔離區(qū)
其他
磨茹·菌類培養(yǎng)
觀葉植物培養(yǎng)
化妝品

美國(guó)太空署(NASA)之無(wú)菌室規(guī)范重點(diǎn)(NHB-5340.2)

無(wú)菌室(BCR)潔凈等級(jí)	微粒子		微生物
	粒徑	累積粒子數(shù) 個(gè)/ft3(個(gè)/L)	浮游量 個(gè)/ft3(個(gè)/L)	沈降量 個(gè)/ft2(個(gè)/M2)
100	≥0.5	≤100(≤3.5)	≤0.1(0.0035)	1200(12900)
10000	≥0.5	≤10000(≤350)	≤0.5(0.0176)	6000(64600)
	≥0.5	≤65(≤2.3)
100000	≥0.5	≤100000(≤3500)	≤2.5(0.0884)	3000(323000)
	≥5.0	≤700(≤25)

 FS-209E潔凈度等級(jí)(1992年)

粒徑大小		≥0.1μm		≥0.2μm		≥0.3μm		≥0.5μm		≥5μm
微粒子數(shù)		個(gè)/M3	個(gè)/ft3	個(gè)/M3	個(gè)/ft3	個(gè)/M3	個(gè)/ft3	個(gè)/M3	個(gè)/ft3	個(gè)/M3	個(gè)/ft3
S1制級(jí)	英制級(jí)
M1		350	9.01	75.7	2.14	30.9	0.875	10.0	0.283
M1.5	1	1240		265	7.50	106	3.00	35.3	1.00
M2		3500	35.0	757	21.4	309	8.75	100	2.83
M2.5	10	124000		2650	75.0	1060	30.0	353	10.0
M3		35000	99.1	7570	214	3090	87.5	1000	28.3
M3.5	100			26500	750	10600	300	3530	100
M4				75700	2140	30900	875	10000	283
M4.5	1000							35300	1000	247	7.00
M5								100000	2830	618	17.5
M5.5	10000							353000	10000	2470	70.0
M6								1000000	28300	6180	170
M6.5	100000							3530000	100000	24700	700
M7								10000000	283000